半导体超纯水设备是应用于半导体生产零件清洗的超纯水设备，需要符合特定的用水水质标准,半导体超纯水设备出水水质要符合美国ASTM纯水水质标准、中国电子工业电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm)、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。 宏洁水务在满足用户用水标准的基础上，在设备系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质...

国内半导体行业近几年来的发展令人注目，特别是大型芯片制造企业在东南沿海地区蓬勃发展。芯片制造过程中要消耗大量的水，同时使用大量的化学试剂和特殊气体，排放的废水中成分复杂，因此如何选择废水处理系统，使废水处理达标，并降低其处理费用，同时充分做好中水回用，降低单位产品的能耗，节约水资源，是我们的研究重点。

RO反渗透纯水设备采用膜分离技术，当系统中所加的压力大于进水溶液渗透压时，使水透过特制的半透膜，从溶液中分离出来，达到对水进行分离、提取、纯化和浓缩的目的。 本设备无需加热，更没有相变过程，因此比传统的方法能耗低。ro反渗透纯水设备体积小，操作简单，适用范围广，处理工业用水，不耗用大量酸碱，无二次污染，运行费用低。